一、發(fā)明專利申請(qǐng)需準(zhǔn)備什么材料

申請(qǐng)發(fā)明專利所需文件：發(fā)明專利請(qǐng)求書;說(shuō)*書;權(quán)利要求書;說(shuō)*書摘要;有附圖的可同時(shí)提交說(shuō)*書附圖和摘要附圖。以上文件要求一式兩份。要求減緩各種專利費(fèi)用的可同時(shí)提交費(fèi)用減緩請(qǐng)求書二份。以上文件必須是打印文字(采用4、小4或5號(hào)字的宋體、仿宋體打字或印刷，字跡為黑色，一定要清晰;紙張為A4的打印紙或復(fù)印紙;文章版心位置：距紙張的上邊和左邊留有2.5厘米的邊距，距右邊和下邊留有1.5厘米的邊距)，并且一律采用專利局規(guī)定的表格格式。

(一)請(qǐng)求書的撰寫：按照表格的內(nèi)容及提示填寫。

(二)說(shuō)*書的撰寫：按照發(fā)明或?qū)嵱眯滦兔Q、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術(shù)方案、有益效果、結(jié)合附圖做進(jìn)一步說(shuō)明、具體實(shí)施方式這些步驟逐一進(jìn)行論述。

(三)權(quán)利要求書的撰寫：應(yīng)以說(shuō)*書為依據(jù)，分獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求。當(dāng)有多項(xiàng)權(quán)利要求時(shí)，應(yīng)以阿拉伯?dāng)?shù)字按順序編號(hào)，一般情況下第1項(xiàng)權(quán)利要求即為獨(dú)立權(quán)利要求，余下為從屬權(quán)利要求，需要對(duì)獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征做進(jìn)一步限定的，即為從屬權(quán)利要求。

獨(dú)立權(quán)利要求通常分前序部分和特征部分：

a.前序部分，寫明要求保護(hù)的主題名稱以及與現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征;

b.特征部分，使用“其特征是......”或類似的用語(yǔ)，寫明區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的獨(dú)到技術(shù)特征。前序部分與特征部分一起，構(gòu)成了該專利申請(qǐng)要求保護(hù)的范圍。

從屬權(quán)利要求的撰寫包括引用部分和限定部分：

a.引用部分：寫明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱;

b.限定部分：寫明要求保護(hù)的附加技術(shù)特征。

(四)說(shuō)*書附圖的繪制。實(shí)用新型專利必須要有附圖;發(fā)明專利一般有附圖，但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的，可以沒(méi)有附圖。

附圖可以采用多種形式：

a.對(duì)于機(jī)械領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu)。

b.對(duì)于電器領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖;

c.對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學(xué)結(jié)構(gòu)式作為附圖;

d.對(duì)于方法發(fā)明，附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。

附圖的要求：

a.附圖應(yīng)當(dāng)符合機(jī)械制圖國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，即應(yīng)當(dāng)使用繪圖工具(或電腦繪圖)，用黑色墨水繪制,線條均勻清晰,圖面不著色,圖周圍不加框線,不要使用鉛筆圓株筆繪制，但附圖不用標(biāo)注比例和尺寸數(shù)據(jù)。

二、發(fā)明專利申請(qǐng)的時(shí)間是多少

1)、發(fā)明專利受理時(shí)間一般為一個(gè)月。委托我公司申請(qǐng)，拿到國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局正式申請(qǐng)?zhí)?即授權(quán)后專利號(hào))的時(shí)間可縮短至2-5個(gè)工作日。

2)、發(fā)明專利審查周期一般為2-3年。

專利申請(qǐng)文件的準(zhǔn)備時(shí)間根據(jù)復(fù)雜程度而定，一般不超過(guò)兩周。

以上就是小編為大家整理的有關(guān)問(wèn)題進(jìn)行的解答。綜上所述，我們可以了解到專利的申請(qǐng)所需要的材料一般有發(fā)明專利請(qǐng)求書，說(shuō)*書，權(quán)利要求書，說(shuō)*書摘要等等的材料。讀者如果需要找律師咨詢法律方面的問(wèn)題，歡迎到律霸網(wǎng)進(jìn)行法律咨詢。

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